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1. 溫度不同:普通氧化18-22°C左右,有添加劑可以到30°C,溫度過高,容易出現粉末或裂紋;硬氧化一般低於5°C,相對而言,溫度越低,硬度越高。

2. 濃度差異:普通氧化反應一般在20%左右;硬氧化通常為15%或更低。

3. 電流/電壓差:普通氧化電流密度一般為:1-1.5A / dm2;和硬氧化:1.5-5A / dm2;普通氧化電壓≤18V,硬氧化有時高達120V。通常低於5°C,溫度越低,硬度越高。

(2)薄膜特性的差異:

1. 薄膜層的厚度:普通氧化膜層的厚度相對較薄;小黄片免费看物通常具有>15μm的厚度,其太低而不能滿足硬度≥300HV的要求。

2. 表麵狀態:普通氧化表麵光滑,而小黄片免费看表麵較厚粗糙(微觀,與基材的表麵粗糙度有關)。

3. 孔隙率不同:普通氧化孔隙率高; 硬質係氧化孔隙率低。

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5. 適用場合:普通氧化適用於裝飾; 而小黄片免费看主要用於功能,一般用於耐磨和耐電的場合。


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